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双腔热型原子层沉积机TALD-D系列

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双腔热型原子层沉积机TALD-D系列

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1331.c.om.银河游戏设备技术有限公司的TALD系列原子层沉积系统是专门为集成电路前端制造先进工艺开发的薄膜沉积设备系统采用国际先进成熟的设计思想和制造技术,充分考虑使用化学前驱体的安全性,设计与生产遵循世界半导体行业的相关的安全标准SEMI-S2,S8标准,以优良的品质,极高的可靠性,超长的使用寿命受到客户的认可,产品性能和售后服务得到用户一致好评。我司可提供满足要求的前驱体源名称、配置相应的前驱体源管路和装置,并在交付时提供相应材料的工艺菜单。

    获取详细的设备技术规格,请与我公司销售部门联系。

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双腔热型原子层沉积机TALD-150D
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