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ALD技术

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ALD技术

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1970s-第一阶段

ALD的发明
Suntola提出ALD概念并逐渐完善

 

1980s-1990s-第二阶段

ALD的孕育与积累
ALD开始应用于TFT等领域独特的自限制沉积模式优势初显

 

2000s~至今-第三阶段

ALD大规模应用与爆发
ALD开始应用于intel处理器的high-k层并开始大规模应用

应用领域不断拓展

 

能源领域:太阳能电池背面钝化、光伏活性层、防腐镀膜、超亲水/疏水涂层、防尘涂层、锂离子电池材料增效
微电子和微机电领域:存储器件活性层、OLED封装、纳米结构器件、微部件的防腐蚀和抗磨损
光学应用:反射涂层和増透涂层,透镜保护、光栅器件、曲面镀膜
其他:膜结构和多孔结构催化活性层、高效贵金属活性层

 

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